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【兆恒機械】光刻技術在半導體產業中的重要地位(17)

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  • 添加日期:2021年03月17日

 

    ●8位專家展望EUV光刻技術(二)

   承接上一部分,本短采訪內容仍然來自GlobalSources電子工程專輯于2010年05月07日發表的采訪。這次訪談的作者為來自電子工程專輯馬立得先生。

   3、Burn Lin
       ——臺灣半導體制造有限公司微成型部高級主管



Burn Lin

   “該行業在某項技術上下的賭注太多。我認為把所有雞蛋放在一個籃子里是很危險的。很多人都明白其中的道理。”

   4、Kurt Ronse
       ——IMEC公司光刻技術部總監


Kurt Ronse

   “我認為我們在沿著正確的方向前進,因為目前還沒有很多替代辦法;我們或者停止縮小尺寸,或者繼續推動EUV技術。”

   “EUV技術已經取得了很大的進步,該技術還沒有大功告成,現在仍然有許多工作要做。但是在我看來,EUV和其他替代技術之間的差距在過去一年已經增大。目前其它替代技術都沒能取得多大進展,而且它們在獲取資金方面也面臨困難。替代技術要達到目標將面臨很大困難。這些替代技術必須專注于16或11納米,因為它們擁有一些達到目標的方法和手段。如果繼續專注于32納米或22納米,則會錯過自己的目標。”

   5、Walden Rhines
       ——Mentor Graphics公司董事長兼CEO


Walden Rhines

“包括OPC和其它分辨率增強技術在內的計算光刻,是能夠把我們從光刻機不斷飆升的成本中解救出來的技術。在過去10年中,計算光刻在EDA市場上占有可用市場總量(TAM)的最大份額。”

   6、DanRubin
       ——Alloy Ventures公司風險投資專家


Dan Rubin

   “日趨明顯的一個現象,就是EUV技術無法充分利用傳統光學光刻技術的基礎架構。這個新穎的技術創新,要求EUV資源和反射型掩模供應鏈,而這個供應鏈尚未建立,另外,缺陷檢測仍然需要大量投入、雄厚的資金以及進度方面的調整。即使完整技術解決方案所需的各部分能夠準時組合,EUV高昂的成本也會令人無法承受,從而影響先進存儲器設備的采納。”


納米壓印光刻技術應對32nm以下工藝的實現

    “在內存芯片市場,我一直支持壓印光刻技術。依靠不到1億美元的總投資,MolecularImprints公司(MII)已取得了令人難以置信的進展,而且性能改進的步伐在持續前進。其CMOS工具的可用性和硬盤驅動工具的吞吐量,從技術角度來看頗令人震驚。如果將投入在EUV上的金錢和業內關注分一部分給它,MII今天可能已經有了次32納米CMOS生產工具。”

   7、Mark Melliar-Smith
       ——納米壓印光刻供應商MII公司CEO


Mark Melliar-Smith

   “這個行業限制了自己的發展前景。現在,它太過于關注單一解決方案。我認為這樣不好。如果MII公司有去年EUV資金的1/12,我們可能已經在解決半導體市場眾多遺留問題方面前進了很遠,并已經做好12至18個月內投產的準備。”

   8、KazuoUshida
       ——尼康旗下精密設備有限公司總裁


Kazuo Ushida

   “對于小批量生產,EUV看起來很有前途。但是EUV趕不上22納米半節距路線圖。EUV將會在晚些時候出現,也許會趕上16納米節點。我們還沒有計量工具。開發掩模工具將需要兩年時間。”